光刻胶添加剂（光刻胶配套试剂）

今天给各位分享光刻胶添加剂的知识，其中也会对光刻胶配套试剂进行解释，如果能碰巧解决你现在面临的问题，别忘了关注本站，现在开始吧！

本文目录一览：

• 1、光刻技术
• 2、北京科华光刻胶股票代码
• 3、国内四大光刻胶龙头企业
• 4、光刻化学01-光刻胶,resist
• 5、半导体核心材料—光刻胶概述

光刻技术

1、光刻技术的加工精度与以下因素有关： 光源波长：光刻机所使用的光源波长越短，光线的分辨率就越高。因此，光刻技术加工精度与光源波长有直接关系。短波长光源如极紫外光（EUV）能够使得光刻机所形成的图案更加精细。

2、光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System。

3、回购光刻机指的是中国芯片企业要求ASML回购已经购买的700台光刻机。光刻机，又名掩模对准曝光机、曝光系统等，是制造芯片的核心装备。光刻机采用类似照片冲印的技术，能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

4、euv和duv相比，euv更先进。EUV光刻技术与DUV光刻技术相比较，除了制造成品尺寸的重要不同之外，还考虑到了成本、效率和可持续性等方面的因素。因此，EUV光刻技术比DUV光刻技术更加先进和高端。

北京科华光刻胶股票代码

1、光华科技：2019年9月25日，公司在互动平台上表示，子公司正常生产销售光刻胶。通程新材：公司全资子公司通程电子收购柯华微电子370%股权，并于2020年7月2日完成相关工商变更登记。

2、龙头股票名称领先的股票代码所属板块行业类别关联理由南大光电300346创业板电子MO市场份额超过20%的源制造商之一；2015年，成为北京科华微电子的股东，是国内光刻胶的领导者。目前，部分产品已通过中芯国际获得商业订单。

3、闻泰科技：闻泰科技是中国A股上市公司，股票代码600745，主营业务包括半导体IDM、光学模组、通讯产品集成三大业务板块。

4、公司全称是烟台正海生物科技股份有限公司，成立于2003年，于2017年5月16日成功上市（股票代码：300653），是国家重点研发计划承担单位，国家“863”计划承担单位，高新技术企业。

5、公司在数据存储方面有着深厚的技术积累和先进的生产能力，同时不断加强在云计算、人工智能等领域的研发。目前公司处于产业发展的快速增长阶段，公司的业绩和股票价格表现都非常出色。

国内四大光刻胶龙头企业

1、国内四大光刻胶龙头企业有南大光电、容大感光、晶瑞电材、彤程新材。

2、光刻胶材料龙头企业排名：容大感光、晶瑞电材、南大光电、上海新阳、华懋科技。

3、光刻胶材料龙头企业排名：晶瑞电材、新莱应材、芯源微、亚威股份、华懋科技等。晶瑞电材 公司作为国内高新技术企业，在微电子化学品的研究开发与生产当中一直处于行业领先位置，其核心产品主要包括光刻胶、功能性材料等。

4、晶瑞股份 核心逻辑：进口替代助力业绩增长，国产光刻胶核心标的。晶瑞股份是国内技术领先的微电子化学品龙头，产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池粘结剂等。

5、（2）KrF光刻胶市场：日本龙头企业东京应化、信越化学和JSR在全球KrF光刻胶细分市场分别占据 34%、22%和18%份额，合计占比达到74%。

6、大族激光（002008）：2020年6月17日公司在互动平台称：公司在研光刻机项目分辨率3- 5μm，主要聚焦在分立器件、LED等领域的应用，今年有望实现小批量销售。

光刻化学01-光刻胶,resist

光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。

光刻胶是一种具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝光图形的介质。光刻胶的英文名是resist，也翻译成resist、photoresist等。光致抗蚀剂的功能是作为抗蚀刻层保护衬底表面。

）感光树脂（聚合剂）：用于将光刻胶中不同材料聚合在一起，构成光刻胶的骨架，决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。

光刻胶产业最早由欧美主导，日本厂商后来居上。1839年，第一套“光刻系统”重铬酸盐明胶诞生。此后经过百年发展，光刻胶技术开始成熟，1950S，德国Kalle公司制成重氮萘醌-酚醛树脂印刷材料，曝光光源可采用g线、i线。

4年由明斯克等人首先研究成功的聚乙烯醇肉桂酸脂就是用于印刷工业的，以后才用于电子工业。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。

半导体核心材料—光刻胶概述

1、光刻胶属于半导体八大核心材料之一，根据全球半导体行业协会（SEMI）最新数据，光刻胶在半导体晶圆制造材料价值占比5%，光刻胶辅助材料占比7%，二者合计占比12%。

2、光刻胶是增感剂、感光树脂、溶剂、助剂等材料合成的。增感剂 是光刻胶的关键成分，对光刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。

3、光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光刻胶，可在表面上得到所需的图像。

4、半导体光刻胶根据曝光光源波长不同来分类，分别是紫外全谱(300～450nm)、G 线(436nm)、 I 线(365nm）、深紫外(DUV，包括248nm和193nm)和极紫外(EUV)，相对应于各曝光波长的光刻胶也由此而生。

5、有相关数据显示，2018年之中，全球半导体市场结构之中光刻胶的占比达到了24%，被称之为半导体的核心材料。在全球半导体光刻胶市场之中，日本企业可以说是一家独大的，随随便便就能够形成垄断的现象，其占比达到了80%。

6、光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料，是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist，又翻译为抗蚀剂、光阻等。光刻胶的作用就是作为抗刻蚀层保护衬底表面。

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